机台净化设备
对于晶圆所处非真空得环境,利用晶圆厂得动力系统(N2/XCDA),使用正压以及闭环控制系统进行净化。 弥费TLP1.0在国内首次实现了极短时间内使FOUP湿度下降到RH1%以下。

可选配置:标配位置传感器、温湿度传感器、压力计、流量计,可选配MFC
功能亮点:

亲和人机界面

稳定系统集成

独立式控制板卡

高速净化

兼容多种EAP通信

软件描述
TLP Software
TLP Software
具有智能、高效、稳定、专业等特点的上位软件,配合自定义的吹气策略和完善的状态监控,有助于保持晶圆盒内的清洁和干湿度稳定,以保证晶圆的特性和质量。

功能亮点:
▪ 支持标准的三段式吹气控制。
▪ 搭配FabScope 能显示当前所有设备运行状态信息。
重要参数


技术指标参数

洁净等级

≤Class100

过滤精度

0.003um

电源

220V,50Hz,2A


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